quarta-feira, 12 de agosto de 2015

Fosforeno

Fosforeno vira transístor positivo ou negativo sem dopagem

Fosforeno vira transístor positivo ou negativo sem dopagem
Os transistores de fosforeno têm seu comportamento elétrico determinado pela espessura do material. [Imagem: IBS]
Fósforo negro
Já imaginou ter um computador com um processador de fósforo, viver em uma Era do Fósforo e eventualmente até trabalhar em um Vale do Fósforo?
Todo esse entusiasmo está vindo de algumas equipes que estão trabalhando com o fosforeno, ou fósforo negro, um material monoatômico como o grafeno e que começou a mostrar seu potencial há pouco mais de um ano.
Esse potencial agora se mostrou ainda maior do que o esperado, conforme relata uma equipe da Universidade Sungkyunkwan, na Coreia do Sul.
Ambipolar
Os transistores que formam todos os circuitos eletrônicos precisam ser fabricados em dois tipos: positivo e negativo. Isto exige o uso de materiais semicondutores com excesso de elétrons (tipo n) ou com excesso de lacunas (tipo p).
Para dar esse aspecto positivo ou negativo ao semicondutor é necessário que o silício seja dopado, ou seja, receba pequenas quantidades de outros elementos.
O que se descobriu agora é que o fosforeno é ambipolar, podendo funcionar como tipo p ou como tipo n, sem a necessidade de adição de elementos dopantes.
A equipe fabricou transistores de fosforeno do tipo p e do tipo n variando apenas a espessura do material e os contatos metálicos usados para ligar os transistores ao circuito.
Entusiasmo
Mas talvez os cientistas tenham-se deixado levar pelo entusiasmo.
Embora a ambipolaridade e a alta mobilidade dos elétrons apresentadas pelo fosforeno coloquem o material como um substituto em potencial para o silício, o material monoatômico sofre dos mesmos problemas que os demais materiais bidimensionais: é muito difícil fabricá-lo mesmo em quantidades para uso em laboratório. Em escala industrial, então, é um sonho distante.

Bibliografia:

High performance n-type black phosphorus transistors with type control via thickness and contact-metal engineering
David J. Perello, Sanghoon Chae, Seunghyun Song, Young Hee Lee
Nature Communications
Vol.: 6, Article number: 7809
DOI: 10.1038/ncomms8809

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